面向全球的半导体、泛半导体高端微纳装备制造商。公司形成了以原子层沉积（ALD）技术为核心，CVD等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系，专注于先进微米级、纳米级薄膜设备的研发、生产与应用。

更新时间：2025-10-12 直达：www.leadmicro.cn

南京原磊纳米材料有限公司由具有近20年先进集成电路制造设备、工艺研发经验的专业领军人创建，致力于成为高端国产半导体设备供应商。公司目前的主要产品是研发和量产型ALD设备，工业级IC设备正在开发中，预计2022年进入验证环节。主要业务：原子层沉积（ALD）、原子层刻蚀（ALE）设备和外延（EPI）高端半导体设备的研发、生产和销售；针对不同客户的需求提供一站式的材料工艺解决方案，并提供定制化的材料、器件光电学性能的优化和表征南京原磊纳米材料有限公司-由具有近20年先进集成电路制造设备、工艺研发经验的专业领军人创建，致力于成为高端国产半导体设备供应商。公司目前的主要产品是研发和量产型ALD设备，工业级IC设备正在开发中，预计2023年进入验证环节。主要业务：原子层沉积（ALD）、原子层刻蚀（ALE）设备和外延（EPI）高端半导体设备的研发、生产和销售；针对不同客户的需求提供一站式的材料工艺解决方案，并提供定制化的材料、器件光电学性能的优化和表征。

更新时间：2025-10-12 直达：www.aname-nj.com

臭氧设备与原子层沉积专家-钧乾智造&埃拓米半导体上海钧乾智造科技有限公司联合子公司埃拓米半导体，专注臭氧水设备、臭氧发生器研发制造，深耕原子层沉积全产业链服务。提供高性能设备、专业技术服务与定制化代工方案，以创新驱动，为光伏、半导体等行业提供一站式解决方案。

更新时间：2025-09-15 直达：www.jqsmc.com

思锐智能,半导体制造装备,原子级薄膜,薄膜解决方案,半导体前道设备,ald/ALD,ald设备,原子层沉积,镀膜设备,镀膜工艺,镀膜技术,镀膜服务,纳米镀膜,真空镀膜设备,薄膜沉积,薄膜生成设备,薄膜技术,薄膜应用,等离子体增强原子层沉积/PEALD,ThermalALD/热法ald,新兴半导体,第三代半导体,MEMS,光学镀膜,零部件镀膜,化合物半导体,高k栅极电介质沉积/HighK,功率器件,氮化镓镀膜/GaN镀膜,碳化硅镀膜/SiC镀膜,沟槽侧壁钝化/trench侧壁镀膜,先进封装,光电器件,ald研发平台,空间ald,表面钝化,晶圆制备工艺,膜厚控制,高保形,无针孔,三维保形性,MtM超摩尔,,离子注入设备,IMP/IonImplanter,高能离子注入机,半导体掺杂工艺,CIS图像传感器,低能大束流离子注入,中能大束流离子注入,碳化硅离子注入,Al离子源技术,离子注入整机翻新

更新时间：2025-09-05 直达：www.sri-i.com

上海德竹芯源科技有限公司是一家专注于半导体前道工艺、后道封装和器件测试设备的销售、系统集成、设备国产化和技术服务的高科技公司。在功率器件、光电器件、MEMS传感器、射频器件、量子器件等应用领域有丰富的经验。主要产品有：键合机、匀胶热板显影设备、刻蚀沉积设备（RIE/PVD/CVD/ALD）、椭偏仪、XRF/XRD、扫描俄歇纳米探针、探针台、半导体参数分析仪、5G通信测试系统等。

更新时间：2025-10-15 直达：dezisemi.com

专注于⾼端ALD、PECVD以及特⾊外延设备技术，⽣产具有⾃主知识产权且具备国际竞争⼒的产品，涵盖tALD、PEALD、Si/GeEPI、SiCEPI、PECVD等核⼼技术，产品⼴泛应⽤于⾼端集成电路、功率器件、射频元件及先进封装领域。

更新时间：2026-05-29 直达：www.psrsemi.com