南京原磊纳米材料有限公司由具有近20年先进集成电路制造设备、工艺研发经验的专业领军人创建，致力于成为高端国产半导体设备供应商。公司目前的主要产品是研发和量产型ALD设备，工业级IC设备正在开发中，预计2022年进入验证环节。主要业务：原子层沉积（ALD）、原子层刻蚀（ALE）设备和外延（EPI）高端半导体设备的研发、生产和销售；针对不同客户的需求提供一站式的材料工艺解决方案，并提供定制化的材料、器件光电学性能的优化和表征南京原磊纳米材料有限公司-由具有近20年先进集成电路制造设备、工艺研发经验的专业领军人创建，致力于成为高端国产半导体设备供应商。公司目前的主要产品是研发和量产型ALD设备，工业级IC设备正在开发中，预计2023年进入验证环节。主要业务：原子层沉积（ALD）、原子层刻蚀（ALE）设备和外延（EPI）高端半导体设备的研发、生产和销售；针对不同客户的需求提供一站式的材料工艺解决方案，并提供定制化的材料、器件光电学性能的优化和表征。
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无锡邑文微电子科技股份有限公司成立于2011年，主营业务为半导体前道工艺设备的研发、制造，公司主要产品为刻蚀工艺设备和薄膜沉积工艺设备，应用于半导体（IC及OSD）前道工艺阶段，尤其是化合物半导体和MEMS等特色工艺领域。
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